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個產品,

對待每一

做到極致認真

每一個零件

每一組數據

  • 智能型HMDS真空系統(JS-HMDS90-AI)
  • 潔凈烘箱,百級無塵烘箱
  • 氮氣烘箱,精密充氮烘箱
  • LCP熱處理烘箱,LCP纖維氮氣烘箱
  • 熱風循環真空烘箱,高溫熱風真空烤箱
  • HMDS預處理系統(JS-HMDS90 )
  • 智能型無塵無氧烘箱(PI烤箱)
  • 真空無氧固化爐,高溫無氧烘箱
  • 精密烤膠臺,高精度烘膠機
  • 超低溫試驗箱,零下-120度高低溫箱
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四腔HMDS真空烘箱 電腦式多工位HMDS烘箱
    發布時間: 2025-09-16 09:25    

四腔HMDS真空烘箱 電腦式多工位HMDS烘箱主要作用

  設備將六甲基二硅烷(HMDS)快速、均勻且經濟高效的對襯底預處理,從而提高襯底與光刻膠的附著力。

  優質的光刻膠附著力是后續所有工藝步驟的基礎,只有經過充分底涂的表面才能精準復現亞微米級的共聚焦光闌,避免出現邊緣爆邊、或括副等問題。真空固化工藝能徹底脫水基板,使與HMDS層形成的優異結合力即使在暴露于大氣濕度數周后仍能保持穩定。

四腔HMDS真空烘箱 電腦式多工位HMDS烘箱工藝特點

化學沉積均勻性

接觸角均一性更好

防潮表面處理

光刻膠的附著力可提高 3-5 倍

避免填充空洞(Void)形成,提高圖形轉移質量

增強光阻附著性

六甲基二硅烷(HMDS)消耗量更低

適用行業:MEMS、濾波、放大、功率等器件,晶圓、藍寶石、玻璃、貴金屬,SiC(碳化硅)、GaN(氮化鎵)、ZnO(氧化鋅)、GaO(氧化鎵)、砷化鎵、鈮酸鋰和、磷化銦、金剛石等第三代半導體材料。

四腔HMDS真空烘箱 電腦式多工位HMDS烘箱性能

容積:40L*4,(1-12寸產品及碎片兼容)可定制

操作應用:4工位獨立控制

溫度范圍:RT+20-200℃

真空度:≤1torr

自動化:電腦式控制+MES上機位控制

真空泵:無油渦旋真空泵

HMDS藥液泄漏報警提示功能

HMDS低液位報警提示功能

工藝數據記錄功能

程序鎖定保護等功能